SMEE masaya bir yumruk attı.
Çin, ABD ve müttefiklerinin hükümetleri duyurularının zamanlamasına ve kullandıkları mesaja çok dikkat ediyor. Tempo ve tonun öneminin farkındalar ve bunları kendi çıkarları doğrultusunda kullanıyorlar. Bu bağlamda, SMIC ve Huawei’nin ortak başarısının tüm dikkatleri üzerine çekmesinden ancak bir ay sonra ve tam da bu dönüm noktasının etkisi azalmaya başlamışken, başka bir haberin Çin çip endüstrisini yeniden tartışmanın merkezine oturtması şaşırtıcı değil.
Ancak bunun şok edici bir haber olduğunu söylemek yanlış olmaz. SMEE, tamamı Çin’de geliştirilen ilk litografi ekipmanını 2023 yılı sonundan önce 28nm çip üretmeye hazır hale getireceğini açıkladı. Yani en fazla üç ay içinde. Bu makine SSA/800-10W ticari adıyla tanımlanacak ve Hollandalı ASML şirketi tarafından üretilen daha gelişmiş aşırı ultraviyole (UVE) ve derin ultraviyole (UVP) litografi ekipmanlarıyla rekabet edemeyecek olsa da, gelişi şu anda sahip olduğu en gelişmiş makine olan SSA600/20’ye kıyasla (yukarıda bahsettiğim gibi 90 nm çip üretebilen) ileriye doğru büyük bir sıçramayı temsil ediyor.
SMEE, Çin’in ASML’si olmak istiyor. Xi Jinping liderliğindeki hükümetin yarı iletken endüstrisinin gelişimini ve ülkesinin teknolojik ilerlemesini korumak için ihtiyaç duyduğu şey tam da bu. Atmak üzere olduğu adım çok yerinde, ancak UVE teknolojisine sahip bir litografi makinesine ne zaman sahip olacağını öngörmek hala zor. Karmaşıklığı nedeniyle bu on yılın sonundan önce hazır olması pek mümkün görünmüyor ve ASML’nin müşterilerinden birine (resmi olarak teyit edilmemiş olsa da muhtemelen Intel) ilk yüksek açıklıklı UVE litografi makinesini, yani kısaca ikinci nesil UVE litografi makinesini teslim etmek üzere olduğu gerçeğini göz ardı edemeyiz. ABD liderliğindeki ittifak ile Çin arasındaki çekişme devam ediyor.
